Funktionsschichtzusammensetzung für Wasserfreie Sekundärzelle, Wasserfreies Sekundärzellenelement und Wasserfreie Sekundärzelle
EP3780188
Art A1
17. Februar 2021
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3780188
- Aktenzeichen
- EP19781857
- Anmeldetag
- 2. April 2019
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01M4/62C08K3/00C08K3/34C08L53/02H01M4/13C08F297/04H01M4/04H01M4/133H01M4/139H01M4/1393H01M50/446H01M50/449H01M10/0525C08K3/36// H01M4/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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