Planare Plasmadiagnosevorrichtung, Wafer-Plasmadiagnosevorrichtung, in der eine Planare Plasmadiagnosevorrichtung Eingebettet Ist, und Elektrostatische Spannvorrichtung, in der eine Planare Plasmadiagnosevorrichtung Eingebettet Ist

EP3780913 Art B1 10. September 2025

Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3780913
Aktenzeichen: EP19912976
Anmeldetag: 15. April 2019
Veröffentlichung: 10. September 2025
Erteilung: 10. September 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H05H1/00H01J37/32H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Research Institute of Standards and Science
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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