Verfahren, Messsystem und Lithographiegerät

EP3781988 Art B1 1. Juni 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3781988
Aktenzeichen
EP19718328
Anmeldetag
15. April 2019
Veröffentlichung
1. Juni 2022
Erteilung
1. Juni 2022
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G02B7/00G02B7/182
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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