Einen Resistunterschichtfilm Bildende Zusammensetzung, Unterschichtfilm für Lithografie und Mustererzeugungsverfahren
EP3786710
Art A1
3. März 2021
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3786710
- Aktenzeichen
- EP19792971
- Anmeldetag
- 26. April 2019
- Veröffentlichung
- 3. März 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11C08G79/00G03F7/075G03F7/20G03F7/26H01L21/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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