Verfahren und System zur Bestimmung eines Eindeutigen Einfallswinkels mittels Interferometrie
EP3794365
Art A2
24. März 2021
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3794365
- Aktenzeichen
- EP19846129
- Anmeldetag
- 15. Februar 2019
- Veröffentlichung
- 24. März 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01S3/48G01S3/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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