Cmc-Flügel-Stirnflansch
Anmelder: RTX Corporation, Raytheon Technologies Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3800327
- Aktenzeichen
- EP20199669
- Anmeldetag
- 1. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 25. September 2024
- Erteilung
- 25. September 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F01D9/04F01D5/28
Abstract
A vane arc segment (60) includes a continuous airfoil piece (62) that defines first and second platforms (63, 64) and an airfoil section (66) that extends between the first and second platforms (63, 64). The airfoil section (66) has a pressure side and a suction side (66c, 66d). The first platform (63) defines axially-sloped suction and pressure side circumferential mate faces (63a/63b), first and second axial sides (63c, 63d), a gaspath side (63e), a non-gaspath side (63f), and a flange (68) that projects from the non-gaspath side (63f). The flange (68) extends along at least a portion the axially-sloped suction side circumferential mate face (63a).
Anmelder
- Firmen
- RTX Corporation
Raytheon Technologies Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.
10.206 Patente in unserer Datenbank