Verfahren zur Herstellung eines Integrierten Schaltkreises, der eine Phase zur Einschnittbildung in einem Substrat Umfasst, und Entsprechender Integrierter Schaltkreis
EP3809455
Art A1
21. April 2021
Anmelder: STMicroelectronics (Rousset) SAS 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3809455
- Aktenzeichen
- EP20200176
- Anmeldetag
- 6. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 21. April 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L27/105H01L27/11541
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics (Rousset) SAS
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
STMicroelectronics (Rousset)
Französischer Produktionsstandort des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics in Rousset. Der Standort fertigt integrierte Schaltkreise und Halbleiterbauelemente für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.
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