Photoresistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Photoresistschicht, Geätzte Photoresistschicht und Geätzte Si-Haltige Schicht (s), und deren Verwendung

EP3811152 Art B1 23. März 2022

Anmelder: Merck Patent GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3811152
Aktenzeichen: EP19731708
Anmeldetag: 17. Juni 2019
Veröffentlichung: 23. März 2022
Erteilung: 23. März 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/038G03F7/004G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Merck Patent GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Merck KGaA

Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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