Schattenmaske mit Konischen Öffnungen, die durch Doppelte Elektroformung mit Reduzierten Inneren Spannungen gebildet Werden

EP3815160 Art A1 5. Mai 2021

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3815160
Aktenzeichen: EP18924260
Anmeldetag: 26. Juni 2018
Veröffentlichung: 5. Mai 2021
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/04C23C14/12C25D1/10H01L51/00H01L51/56

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von