Verbesserte Antimonfreie Strahlungshärtbare Zusammensetzungen zur Generativen Fertigung und Anwendungen davon in Feingussverfahren

EP3827955 Art B1 1. Januar 2025

Anmelder: Stratasys, Inc., Covestro (Netherlands) B.V., DSM IP Assets B.V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3827955
Aktenzeichen
EP21150525
Anmeldetag
17. November 2016
Veröffentlichung
1. Januar 2025
Erteilung
1. Januar 2025
Rechtsraum
EP
IPC
B29C35/08B33Y70/00C08F2/50C08G59/22B22C9/04B29K105/00C08G59/24C08G65/18C09D163/00B33Y10/00B29C64/124C08G59/68C09D7/63
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Stratasys, Inc.
Covestro (Netherlands) B.V.
DSM IP Assets B.V.
Land
🇺🇸 USA
🇳🇱 DSM

Niederländisches Unternehmen für Ernährung, Gesundheit und Materialien mit Sitz in Heerlen. Aktiv in Biotechnologie, Spezialchemikalien sowie Inhaltsstoffen für Lebensmittel, Pharma und nachhaltige Materialien. Seit 2023 Teil von dsm-firmenich.

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