Verbesserte Antimonfreie Strahlungshärtbare Zusammensetzungen zur Generativen Fertigung und Anwendungen davon in Feingussverfahren
EP3827955
Art B1
1. Januar 2025
Anmelder: Stratasys, Inc., Covestro (Netherlands) B.V., DSM IP Assets B.V. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3827955
- Aktenzeichen
- EP21150525
- Anmeldetag
- 17. November 2016
- Veröffentlichung
- 1. Januar 2025
- Erteilung
- 1. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B29C35/08B33Y70/00C08F2/50C08G59/22B22C9/04B29K105/00C08G59/24C08G65/18C09D163/00B33Y10/00B29C64/124C08G59/68C09D7/63
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Stratasys, Inc.
Covestro (Netherlands) B.V.
DSM IP Assets B.V. - Land
- 🇺🇸 USA
🇳🇱
DSM
Niederländisches Unternehmen für Ernährung, Gesundheit und Materialien mit Sitz in Heerlen. Aktiv in Biotechnologie, Spezialchemikalien sowie Inhaltsstoffen für Lebensmittel, Pharma und nachhaltige Materialien. Seit 2023 Teil von dsm-firmenich.
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