Verfahren und Anordnung zur Charakterisierung einer Maske oder eines Wafers für die Mikrolithographie
EP3834040
Art A1
16. Juni 2021
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3834040
- Aktenzeichen
- EP19749271
- Anmeldetag
- 24. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 16. Juni 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/84G03F7/20G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
103
Patente gesamt
19
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte