Gegenüber Aktinischen Strahlen Empfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Musterherstellungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung
EP3848756
Art B1
6. Juli 2022
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3848756
- Aktenzeichen
- EP19858360
- Anmeldetag
- 13. August 2019
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2022
- Erteilung
- 6. Juli 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München