Systeme und Verfahren zur Maskierung Während der Hochenergetischen Implantation bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen mit Grosser Bandlücke
EP3857596
Art B1
29. Oktober 2025
Anmelder: General Electric Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3857596
- Aktenzeichen
- EP19865413
- Anmeldetag
- 23. September 2019
- Veröffentlichung
- 29. Oktober 2025
- Erteilung
- 29. Oktober 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/266H10D12/01H10D62/10// H10D62/832
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- General Electric Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
General Electric
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.
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Fachgebiete
Kanzlei
Meissner Bolte Patentanwälte
Bremen, Deutschland
Meissner Bolte zählt zu den traditionsreichen deutschen IP-Kanzleien und ist seit über einem Jahrhundert im gewerblichen Rechtsschutz tätig, mit Standorten in Deutschland und Großbritannien sowie einem eigenen Asia-Desk für internationale Mandanten.
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