Gasbehandlungsverfahren und Gasbehandlungsvorrichtung
EP3858464
Art A1
4. August 2021
Anmelder: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3858464
- Aktenzeichen
- EP19866257
- Anmeldetag
- 25. September 2019
- Veröffentlichung
- 4. August 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01D53/047C01B3/56C01B13/02C01B32/40C01B32/50B01D53/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sekisui Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.
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