Halbleitermaterial, Infrarotlichtempfangselement und Verfahren zur Herstellung von Halbleitermaterial
EP3859791
Art A1
4. August 2021
Anmelder: Ibaraki University, JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3859791
- Aktenzeichen
- EP19883358
- Anmeldetag
- 23. Mai 2019
- Veröffentlichung
- 4. August 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/032
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Ibaraki University
JX Nippon Mining & Metals Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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