Sputterziel mit Rückseitigen Kühlrillen
EP3862460
Art B1
15. Februar 2023
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3862460
- Aktenzeichen
- EP21158423
- Anmeldetag
- 14. August 2014
- Veröffentlichung
- 15. Februar 2023
- Erteilung
- 15. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34H01J37/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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