Chemische Flüssigkeit, Gehäusekörper für Chemische Flüssigkeit, Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters und Herstellungsverfahren für Halbleiterchips
EP3862815
Art A1
11. August 2021
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3862815
- Aktenzeichen
- EP19869099
- Anmeldetag
- 4. September 2019
- Veröffentlichung
- 11. August 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/32B65D1/00G03F7/26H01L21/027G03F7/038G03F7/039G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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