Wafer, Epitaktischer Wafer, Verfahren zur Herstellung eines Wafers und Verfahren zur Herstellung eines Epitaxialen Wafers
EP3872239
Art A1
1. September 2021
Anmelder: SENIC Inc., SKC Co., Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3872239
- Aktenzeichen
- EP21159276
- Anmeldetag
- 25. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 1. September 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/36C30B23/00H01L21/02H01L29/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SENIC Inc.
SKC Co., Ltd. - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
SKC
SKC ist ein südkoreanischer Chemie- und Materialkonzern, Teil der SK-Gruppe, mit Schwerpunkt Kunststofffolien und Halbleitermaterialien. Der Patentbestand konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Fertigungs- und Optiktechnik.
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Vertreten von
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