Lithografisches Strukturierungsverfahren und System dafür

EP3894960 Art A1 20. Oktober 2021

Anmelder: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3894960
Aktenzeichen: EP19823822
Anmeldetag: 13. Dezember 2019
Veröffentlichung: 20. Oktober 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 TNO (Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek)

Niederländisches, unabhängiges Forschungsinstitut für angewandte Naturwissenschaften mit Sitz in Den Haag. TNO betreibt anwendungsorientierte Forschung und Entwicklung in Bereichen wie Energie, Mobilität, Gesundheit, Verteidigung und Informationstechnologie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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