Grossflächige Selbstbildgebende Lithografie auf Basis einer Breitbandigen Lichtquelle

EP3899661 Art A1 27. Oktober 2021

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3899661
Aktenzeichen: EP19901254
Anmeldetag: 6. Dezember 2019
Veröffentlichung: 27. Oktober 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von