Verfahren zur Herstellung von Wafern, Verfahren zur Herstellung von Epitaxialwafern und Dadurch Hergestellte Wafer und Epitaxialwafer
EP3916137
Art A1
1. Dezember 2021
Anmelder: SENIC Inc., SKC Co., Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3916137
- Aktenzeichen
- EP21161288
- Anmeldetag
- 8. März 2021
- Veröffentlichung
- 1. Dezember 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B23/02C30B25/18C30B25/20C30B29/36B24B37/04C30B35/00H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SENIC Inc.
SKC Co., Ltd. - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
SKC
SKC ist ein südkoreanischer Chemie- und Materialkonzern, Teil der SK-Gruppe, mit Schwerpunkt Kunststofffolien und Halbleitermaterialien. Der Patentbestand konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Fertigungs- und Optiktechnik.
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Vertreten von
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