Für Aktinische Strahlen Empfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Verfahren zur Herstellung eines Musters und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung

EP3919528 Art B1 20. November 2024

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3919528
Aktenzeichen: EP20748057
Anmeldetag: 16. Januar 2020
Veröffentlichung: 20. November 2024
Erteilung: 20. November 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/085G03F7/004G03F7/32G03F7/039C08F2/50C08F220/18C08F220/24C08L33/08C08L33/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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