Filmausbildungsverfahren und Filmausbildungsvorrichtung

EP3919657 Art A1 8. Dezember 2021

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3919657
Aktenzeichen: EP20749081
Anmeldetag: 27. Januar 2020
Veröffentlichung: 8. Dezember 2021
Rechtsraum: EP
IPC: C30B25/12C30B29/36C23C16/32C23C16/44H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von