Grossflächiges Hochauflösendes Lithografisches Verfahren zur Reduktion von Merkmalen
EP3924778
Art A1
22. Dezember 2021
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3924778
- Aktenzeichen
- EP20755271
- Anmeldetag
- 24. Januar 2020
- Veröffentlichung
- 22. Dezember 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/22G03F1/52G03F1/38G02B5/18G02B27/42G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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