Verfahren zum Herstellen eines Prozessbehälters für Halbleiterwerkstücke und Prozessbehälter
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3929969
- Aktenzeichen
- EP20181299
- Anmeldetag
- 22. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 6. Dezember 2023
- Erteilung
- 6. Dezember 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/673
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines einen Behälter umfassenden Prozessbehälters (110) für Halbleiterwerkstücke (200), bei dem aus einem Grundmaterial mittels eines additiven Aufbauverfahrens der Behälter mit einer vorgegebenen Form erzeugt wird, wobei anschließend zumindest in vorbestimmten Bereichen einer Oberfläche des Behälters ein Beschichtungsmaterial zum Schutz gegen Chemikalien aufgebracht wird, sowie einen solchen Prozessbehälter (110).
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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