Verfahren zur Herstellung von Alpha-Necrodylverbindungen und Verfahren zur Herstellung von Gamma-Necrodylverbindungen
EP3943474
Art B1
29. März 2023
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3943474
- Aktenzeichen
- EP21186479
- Anmeldetag
- 19. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 29. März 2023
- Erteilung
- 29. März 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C29/147C07C33/12C07C67/293C07C67/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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De Vries & Metman
De Vries & Metman · Amsterdam