Abziehemulsionsschicht für Lithographie
EP3944018
Art A1
26. Januar 2022
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3944018
- Aktenzeichen
- EP21195196
- Anmeldetag
- 24. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/62G03F1/00G03F1/22G03F1/64G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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