Lichtempfindliche Zusammensetzung für Euv-Licht, Verfahren zur Musterbildung und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung

EP3950744 Art B1 18. Oktober 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3950744
Aktenzeichen: EP20784526
Anmeldetag: 9. März 2020
Veröffentlichung: 18. Oktober 2023
Erteilung: 18. Oktober 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C08F220/16C08F220/22G03F7/039G03F7/20C08F220/18C08F220/24C08F220/28G03F7/004C08L33/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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