Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Gruppe-Iii-Nitrid-Substrats

EP3951024 Art A1 9. Februar 2022

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3951024
Aktenzeichen: EP20776441
Anmeldetag: 24. März 2020
Veröffentlichung: 9. Februar 2022
Rechtsraum: EP
IPC: C30B29/40C23C16/455C30B25/14H01L21/02C23C16/30C30B25/16C23C16/458

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von