Sensitive Schicht für Nanomechanischen Sensor unter Verwendung von POLY(2,6-Diphenyl-P-Phenylenoxid), Nanomechanischer Sensor mit Besagter Sensitiver Schicht, Verfahren zur Beschichtung eines Nanomechanischen Sensors mit Besagter Sensitiver Schicht und Verfahren zur Regenerierung einer Sensitiven Schicht des Besagten Nanomechanischen Sensors
EP3961185
Art B1
4. Dezember 2024
Anmelder: National Institute for Materials Science 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3961185
- Aktenzeichen
- EP20794817
- Anmeldetag
- 14. April 2020
- Veröffentlichung
- 4. Dezember 2024
- Erteilung
- 4. Dezember 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N5/02G01N19/00G01N33/00C08L71/12G01L1/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute for Materials Science
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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