Antireflektierender und Antiviraler Schutzschild, Verfahren zur Herstellung eines Antireflektierenden und Antiviralen Schutzschildes Und/oder eines Antireflektierenden und Antiviralen Visiers für ein Gesichtsschutzsystem sowie Antireflektierendes und Antivirales Visier für ein Gesichtsschutzsystem
EP3968060
Art A1
16. März 2022
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3968060
- Aktenzeichen
- EP20196293
- Anmeldetag
- 15. September 2020
- Veröffentlichung
- 16. März 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B1/111A41D13/11A41D13/12A61K33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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