Mikrowellenverbindungsverfahren für Kupferflachdraht mit Vertikaler Einführung
EP3970456
Art A1
23. März 2022
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3970456
- Aktenzeichen
- EP19727569
- Anmeldetag
- 14. Mai 2019
- Veröffentlichung
- 23. März 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05K1/02H05K3/10H05K3/40H05K3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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