Wafer mit Gan-Substrat und Herstellungsverfahren dafür
EP3978658
Art A1
6. April 2022
Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3978658
- Aktenzeichen
- EP20814497
- Anmeldetag
- 28. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 6. April 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B25/18C30B25/20H01L21/205C30B29/40H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München