Wafer mit Gan-Substrat und Herstellungsverfahren dafür

EP3978658 Art A1 6. April 2022

Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3978658
Aktenzeichen
EP20814497
Anmeldetag
28. Mai 2020
Veröffentlichung
6. April 2022
Rechtsraum
EP
IPC
C30B25/18C30B25/20H01L21/205C30B29/40H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Mitsubishi Chemical Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

2.926 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen