Ätzverfahren und Ätzvorrichtung

EP3985714 Art A1 20. April 2022

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Université D'Orléans 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3985714
Aktenzeichen
EP20822819
Anmeldetag
2. Juni 2020
Veröffentlichung
20. April 2022
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/3065H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Tokyo Electron Limited
Université D'Orléans
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen