Ätzverfahren und Ätzvorrichtung
EP3985714
Art A1
20. April 2022
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Université D'Orléans 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3985714
- Aktenzeichen
- EP20822819
- Anmeldetag
- 2. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 20. April 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Université D'Orléans - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München