Entwurfsverfahren für Waferlayout und Belichtungssystem für Lithografiemaschine
EP3985715
Art A1
20. April 2022
Anmelder: Changxin Memory Technologies, Inc. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3985715
- Aktenzeichen
- EP21817512
- Anmeldetag
- 10. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 20. April 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G06F30/392H01L21/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Changxin Memory Technologies, Inc.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Changxin Memory Technologies
Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.
2.637 Patente in unserer Datenbank