Film, Mehrschichtiger Körper, Halbleiterwafer mit Filmschicht, Substrat zur Montage eines Halbleiters mit einer Filmschicht,und Halbleiterbauelement

EP3991968 Art A1 4. Mai 2022

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3991968
Aktenzeichen
EP20830876
Anmeldetag
26. Juni 2020
Veröffentlichung
4. Mai 2022
Rechtsraum
EP
IPC
B32B27/34C08F22/40C08L35/00C08L61/34H01L21/60C08K3/013C09D4/00H01L21/56B32B7/12B32B27/06B32B27/36
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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