Harzzusammensetzung mit Empfindlichkeit Gegenüber Aktinischer Strahlung oder Strahlung, Verfahren zur Herstellung von Mustern, Resistfilm und Herstellungsverfahren für eine Elektronische Vorrichtung
EP3992181
Art A1
4. Mai 2022
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3992181
- Aktenzeichen
- EP20831665
- Anmeldetag
- 1. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C381/12G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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