Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte mit einer Metallhaltigen Schicht

EP3993575 Art A1 4. Mai 2022

Anmelder: Korea Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3993575
Aktenzeichen
EP21204695
Anmeldetag
26. Oktober 2021
Veröffentlichung
4. Mai 2022
Rechtsraum
EP
IPC
H05K3/10C04B41/90C04B37/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Korea Institute of Science and Technology
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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Venner Shipley entstand 1947 aus einer Patentagentur der 1930er-Jahre; durch Fusionen reichen ihre Wurzeln bis in die 1880er zurück. Als europäische Full-Service-IP-Kanzlei ist sie neben Großbritannien auch in Madrid und München vertreten.

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