Blende, Optisches System und Lithographieanlage

EP3994527 Art B1 25. Oktober 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3994527
Aktenzeichen: EP20736291
Anmeldetag: 29. Juni 2020
Veröffentlichung: 25. Oktober 2023
Erteilung: 25. Oktober 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B17/08G02B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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