Musterweises Aufbringen von Antisintermitteln durch Oberflächenenergiemodulation für den 3D-Drucken

EP3995291 Art A1 11. Mai 2022

Anmelder: Palo Alto Research Center Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3995291
Aktenzeichen: EP21206459
Anmeldetag: 4. November 2021
Veröffentlichung: 11. Mai 2022
Rechtsraum: EP
IPC: B29C64/165B29C64/241B22F10/50B33Y70/00B33Y30/00B33Y10/00B29C64/188B22F3/10B22F10/10B22F12/44B22F12/53B22F12/55

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Palo Alto Research Center Incorporated
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Palo Alto Research Center

US-amerikanisches Forschungsinstitut in Palo Alto, bekannt als PARC, das für Xerox und externe Auftraggeber Grundlagen- und angewandte Forschung in Informatik, Elektronik und Materialwissenschaften betreibt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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