Substratverarbeitungssystem und Substratverarbeitungsverfahren

EP4012756 Art A1 15. Juni 2022

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4012756
Aktenzeichen: EP20849250
Anmeldetag: 2. Juli 2020
Veröffentlichung: 15. Juni 2022
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/56C23C14/50C23C14/35C23C14/06H01L21/677H01L21/67H01J37/32H01J37/34B82Y10/00G11B5/85G11B21/00B65G47/91

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verpackungs- & Fördertechnik

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