Verfahren zum Herstellen einer Implantatform zur Minimierung der durch einen Computer auf das Implantat Ausgeübten Spannung
EP4026515
Art B1
25. Dezember 2024
Anmelder: Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation, University-Industry Foundation, Yonsei University 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4026515
- Aktenzeichen
- EP20868715
- Anmeldetag
- 21. August 2020
- Veröffentlichung
- 25. Dezember 2024
- Erteilung
- 25. Dezember 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- A61C13/00A61C9/00A61C13/097A61C13/34A61B5/00A61C8/00A61C5/77
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation
University-Industry Foundation, Yonsei University - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation
Die Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation ist die Transfereinrichtung einer südkoreanischen staatlichen Universität. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik sowie Mess-, Halbleiter- und Kunststofftechnik, ergänzt durch organische Chemie. Die Anmeldungen von 2002 bis 2025 betreffen unter anderem Sensoren für Nanokunststoffe und Kristallzuchtverfahren.
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