Verfahren zum Herstellen einer Implantatform zur Minimierung der durch einen Computer auf das Implantat Ausgeübten Spannung

EP4026515 Art B1 25. Dezember 2024

Anmelder: Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation, University-Industry Foundation, Yonsei University 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4026515
Aktenzeichen
EP20868715
Anmeldetag
21. August 2020
Veröffentlichung
25. Dezember 2024
Erteilung
25. Dezember 2024
Rechtsraum
EP
IPC
A61C13/00A61C9/00A61C13/097A61C13/34A61B5/00A61C8/00A61C5/77
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation
University-Industry Foundation, Yonsei University
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation

Die Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation ist die Transfereinrichtung einer südkoreanischen staatlichen Universität. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik sowie Mess-, Halbleiter- und Kunststofftechnik, ergänzt durch organische Chemie. Die Anmeldungen von 2002 bis 2025 betreffen unter anderem Sensoren für Nanokunststoffe und Kristallzuchtverfahren.

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