Projektionsbelichtungsgerät für Halbleiterlithografie
EP4031919
Art B1
6. August 2025
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4031919
- Aktenzeichen
- EP20772271
- Anmeldetag
- 15. September 2020
- Veröffentlichung
- 6. August 2025
- Erteilung
- 6. August 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B7/182G02B7/02G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Kanzlei
Raunecker Patent
Ulm, Deutschland
Raunecker Patent ist eine Patentanwälte-Partnerschaft mit Hauptsitz in Ulm und Standorten in München und Markdorf, die beim Schutz technischer Erfindungen, bei Patent-, Marken- und Designanmeldungen sowie bei Markenüberwachung und Lizenzvereinbarungen begleitet.
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