Verfahren zur Dammbildung und Verfahren zur Herstellung eines Schichtkörpers
EP4032622
Art A1
27. Juli 2022
Anmelder: Dexerials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4032622
- Aktenzeichen
- EP20865670
- Anmeldetag
- 14. September 2020
- Veröffentlichung
- 27. Juli 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B05D3/00B05D1/26B32B27/00B32B37/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dexerials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dexerials
Japanischer Hersteller elektronischer Komponenten und optischer Materialien mit Sitz in Tokio, 2012 als Ausgründung aus Sony Chemical hervorgegangen.
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