Reflektierende Maske und Herstellungsverfahren für eine Reflektierende Maske
EP4053631
Art A1
7. September 2022
Anmelder: Tekscend Photomask Corp., Toppan Photomask Co., Ltd., TOPPAN INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4053631
- Aktenzeichen
- EP20883438
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 7. September 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G03F1/82C23C16/30C23C16/34C23C16/40C23C16/42G03F1/54G03F1/48
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tekscend Photomask Corp.
Toppan Photomask Co., Ltd.
TOPPAN INC. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München