Chemisch Erweiterte Positive Resistzusammensetzung und Resistmusterformungsverfahren
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4060407
- Aktenzeichen
- EP22161785
- Anmeldetag
- 14. März 2022
- Veröffentlichung
- 21. September 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/039
Abstract
A chemically amplified positive resist composition is provided comprising a base polymer which contains a polymer comprising an acid generating unit, a phenolic hydroxy group-containing unit, a unit containing a phenolic hydroxy group protected with an acid labile group, and a unit containing a carboxy group protected with an acid labile group. A resist pattern with a high resolution, reduced LER, improved rectangularity, and minimized influence of develop loading can be formed.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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