Inverse Lithografie und Maschinelles Lernen für die Masken-Synthese

EP4062230 Art B1 18. Februar 2026

Anmelder: Synopsys, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4062230
Aktenzeichen: EP20828887
Anmeldetag: 24. November 2020
Veröffentlichung: 18. Februar 2026
Erteilung: 18. Februar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/36G03F1/70G03F7/00G06F30/398G06N3/08G06N3/045// G06N5/01

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Synopsys, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

483 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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