Verfahren zur Herstellung eines Gruppe-Iii-Nitridsubstrats und Gruppe-Iii-Nitridsubstrat
EP4089212
Art A1
16. November 2022
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4089212
- Aktenzeichen
- EP20913026
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2020
- Veröffentlichung
- 16. November 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/38C23C16/34C30B25/20H01L21/205H01L21/02H01L21/18C23C14/48C23C16/30C30B33/04C30B33/06C30B25/02C30B29/40C23C16/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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