Kieselsäureteilchen, Kieselsol, Polierzusammensetzung, Polierverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterwafers und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
EP4098615
Art A1
7. Dezember 2022
Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4098615
- Aktenzeichen
- EP21747821
- Anmeldetag
- 25. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/141C01B33/18C09K3/14H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München