Positive Resistzusammensetzung, Resistfilm, Verfahren zur Musterformung und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung
EP4098672
Art A1
7. Dezember 2022
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4098672
- Aktenzeichen
- EP21748024
- Anmeldetag
- 22. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08F212/12G03F7/004G03F7/039C08F220/10C09D125/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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